Cibles de pulvérisation

Les cibles de pulvérisation sont des matériaux spécialisés utilisés pour le dépôt de couches minces dans diverses industries, notamment l’électronique, l’énergie et le textile. Ces cibles peuvent être composées de différents éléments ou alliages, tels que des métaux purs ou des céramiques, et sont bombardées par des ions, ce qui provoque l’éjection d’atomes ou de molécules de leur surface. Ces particules se déposent ensuite sur un substrat pour former un film mince et uniforme. Il existe différents types de cibles de projection, notamment des cibles planes ou rotatives, ainsi qu’une gamme de matériaux tels que l’or, l’argent, le titane et le tungstène. Leur sélection dépend de différents facteurs, notamment les exigences de l’application, les propriétés des matériaux et la compatibilité avec le système de projection.